磨料对平面抛光效果的影响平面抛光过程中磨料的作用是借助于机械力，将晶片表而经化学反应后形成的钝化膜去除，从而达到表而平整化的目的。日前常用的磨料有胶体SiO2、Al2O3及CeO2等。磨料的种类决定了磨粒的硬度、尺寸，从而影响抛光效果。抛光铝实验中，相对于SiO2、Al2O3磨料能获得较好的表而平整度，表而刮痕数量少、尺寸小，其原因是胶体SiO2磨粒尺寸小，抛光时磨料嵌入晶片表面的深度较小，并且在推荐其它参数的情况下，也能获得很高的抛光效率。磨料的浓度会影响抛光效果。抛光铝实验中，随着磨料(胶体SiO2)浓度的提高，单位而积参与磨削的磨粒数日增加，所以抛光效率提高，表而刮痕尺寸缓慢增人或基本保持不变;但磨料浓度过人时，抛光液的粘性增人，流动性降低，影响加工表而氧化层的有效形成，导致抛光效率降低。磨粒的尺寸也会对抛光效果产生影响，磨粒尺寸越小，表而损伤层厚度小。据统计，在硅片的精抛过程中，每次磨削层的厚度为磨粒尺寸的四分之一。为了有效地减小表而粗糙度和损伤层厚度，通常采用小尺寸的胶体硅(15~20nm)来代替粗抛时的胶体硅(50~70rnm);同时通过加强化学反应及提高产物的排除速度来提高抛光效率。 以较快地消除几何形状误差和切去较大的加工余量，通常即可完成粗磨，以密封面全部研磨出为准。东莞五金平磨平面怎么样
平面抛光机在使用磨料进行加工的各道研磨工序中，被研表面光洁度主要是大量磨粒切削刃尖在被研表面上所形成的无数切痕互相重迭的结果。从总的方面来说，被研表面光洁度的高低，取决于磨粒的粗细，或者说取决于磨粒压下工件表面的深度及通过工件单位横截表面的有效磨粒数量。但在实际研磨过程中，并不仅是选择了细的磨料(如)，就能研出理想的表面光洁度来(如▽14)，还有很多因素影响工件在平面抛光机中的研磨质量。试作如下分析：选择合适的磨料粒度磨料的粒度愈小，获得的表面光洁度就愈高。如要进一步提高表面光洁度，可对使用的磨料再次分选，这样使磨粒的大小均匀程度及基本颗粒的数量比，都可以得到改善。对一般的敷砂研磨来说，滚动的磨粒数量愈少，表面光洁度愈就高。为了提高表面光洁度，可用浸煤油的棉花将敷砂粒擦净，再作一次干研磨，其加工量为～1微米。当研磨软质材料工件时，磨粒容易嵌入工件表面，使研痕加深，从而破坏了表面光洁度。为了得到较高的表面光洁度，可采用嵌砂研具或者材质软的研具进行研磨。一般说来，被研表面光洁度是随着被研工件材料硬度的增加而得到改善的，因此，对于淬硬钢工件表面光洁度的提高，可通过提高淬火硬度的方法来达到。
东莞五金平磨平面怎么样适合于超精研磨用研具，但不允许存在缩孔、缩松以及气孔、夹砂、砂眼、断裂等铸造缺陷。
抛光液的性能对工件双面抛光的影响抛光液的性能直接影响到抛光后工件的表面质量，是双面抛光的关键要素之一。抛光液一般包括超细的固体磨粒(如纳米A120:及Si0:磨粒等)、表面活性剂以及氧化剂和稳定剂等几部分，其中固体磨粒产生切削作用，去除发生化学变化需要切除的部位，氧化剂产生化学腐蚀溶解作用，溶解切屑。在抛光过程中，抛光液中磨粒的种类、形状、大小、浓度、化学成分、PH值、粘度、流速和流动的途径都会对去除速度产生影响。对不同材料的工件进行抛光时，所需要抛光液的成份、PH值也不尽相同同。PH值影响工件的表面质量和去除率表现在对磨料的分解与溶解度、被抛表面刻蚀及氧化膜的形成、悬浮度(胶体稳定性)等方面，因此需要严格控制抛光液的PH值。当处于抛光氧化物时，抛光液一般选取Si0:作为磨料，PH值控制在10以上;而抛光金属时，抛光液一般选用酸性的，保证PH值在较小的数值，以便保持极高的工件去除率。磨粒按硬度可分为软磨粒和硬磨粒两类。常用的磨粒包括氧化铝系、碳化物系、超硬磨料系和软磨料系4类。抛光用磨粒需具有下列性能:(1)磨粒形状和尺寸均匀一致，保持在一定范围;(2)磨粒的熔点要比工件的熔点高;(3)磨粒能适当地破碎，使切刃变锋利。
研磨速度研磨速度是控制余量去除速度和研磨表面质量的重要工艺参数。图5为工件余量去除、研磨便面粗糙度与研磨速度的关系曲线。为了获得规定的表面粗糙度而必须耗费的研磨时间大于去除余量所需的时间，就应适当降低研磨速度，反之一样，而平面研磨时速度可参照表2选取研磨速度。研磨速度对余量去除和表面粗糙度的影响对研具的磨损影响很大。研磨速度过快时，研具急剧磨损，可能引起工件的热变形，直接影响加工精度。因此，为了避免研磨磨损过快，可根据实际情况，在表2基础上选取1/3~1/2范围进行研磨。研磨时间通常密封面在研磨前，通过其他加工方式获得预加工精度，研磨开始阶段，因研磨剂磨粒锋利，微切削作用强，零件研磨表面的几何形状误差和粗糙度较快得以纠正。随着研磨时间延长，磨粒钝化，微切削作用下降，不仅加工精度不能提高，反而因热量增加造成表面质量下降。所以，粗研时在规定工艺参数内，选用较粗的研磨剂、较高速度和研磨压力下进行研磨，以较快地消除几何形状误差和切去较大的加工余量，通常即可完成粗磨，以密封面全部研磨出为准。一般精研时间约为5min~10min，超过10min研磨效果不明显。抛光完成研磨后的密封面，便面采用酒精或清洗器密封面。
同时适时、适量添加研磨剂，保证研磨剂流动连续性。
用手逆时钟方向旋动千分尺一整圈(往上移动即退刀)，然后将修面机后退，此时修面机刀架往研磨盘外边移动,一直到自动停止或脱离磨盘边沿为止(但在此之前须记住零点位置时千分尺的刻度，这样才能保证进刀量不会出差错)。修面机后退停止之后,再用手顺时钟方向旋动千分尺一整圈(往下移动即进刀)，使其再反至零点位置，再根据研磨盘表面情况来判断是否要粗修。粗修的比较大进刀量不能超过150um，修面速度一般为15HZ，精修的进刀量推荐为20um，修面速度一般为10HZ，把进刀量与修面速度设置好之后，再把研磨盘转速设置为最高转速95转/分钟，然后依次启动研磨盘与修面机(由于研磨盘修面需要较高的转速才能得到理想的修面效果，因此在这种高速旋转的条件下，主轴噪音会比正常研磨的噪音大，这种噪音为正常噪音)，此时修面机刀架往研磨盘中间移动开始修面。为了节省时间，一般进的时候粗修，退的时候精修。如果研磨盘的表面相对比较平的话只需要精修就够了。但要注意的是：修面机在安装了修面刀的情况下，如果要启动修面机必须先启动研磨盘旋转充分之后方能启动修面机。，如需要加工螺旋槽，请参考以下操作方法，设置修面机速度为45HZ，然后设置磨盘主轴转速。
尤其对于NI-WC密封面，其硬度≥63HRC。湖北磨五金平面哪里买
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浅谈平面超精研磨工艺煤直接液化装置上用的金属密封球阀,其严苛工况对密封面粗糙度和平面度提出更高的要求，采用传统的研磨工艺，加工后的零件表面粗糙度只达到，无法满足超精密封技术要求，超精研磨工艺研究已然成为阀门行业的一个重要课题。下面对平面密封面技术要求进行简要分析以规格为6"，2500LB煤化工样机平面密封面技术要求为例，其阀体和阀座零件密封面材质分别为STL21和NI-WC，硬度均≥45HRC，光洁度要求，平面度要求。尤其阀体平面密封面处于内孔底面，具体如图1所以，技术要求难点主要体现在如下两方面：(1)平面度要求较高。采用车削加工方式，在切削条件理想状态下精度可保持在(因密封面所处位置原因，无法采用磨削方式加工)。(2)粗糙度要求较高。常规切削方式粗糙度保持在，无法达到。超精研磨加工在结合传统的研磨工艺基础上超精研磨各个工艺环节的影响因素进行分析，形成图2所示超精研磨工艺的输入树形结构图。研磨剂(1)磨料碳化硼(B4C)是已知坚硬的三种材料之一，具有高硬度、高耐磨性和易碎性较低等特性，并且在研磨过程中破碎后仍保持一定的锋刃，可作为硬质合金材料(尤其对于NI-WC密封面，其硬度≥63HRC)研磨磨料优先。
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